乾冰清洗設備

※ 不使用任何有毒或有害環境之化學品，乾冰可直接揮發於大氣環境，可避免危害健康的危險因素。

※ 透過乾冰(CO2)進行表面清潔，高效率移除粉塵等特定殘留物，12” Wafer UPH約12 (3min/1pcs wafer)，優於現行水洗設備。

※ 不傷害產品、使用後不殘留、無化學品對應要求、無排廢氣廢水及廢棄處理困擾。